您知道什么是AMC吗?其实AMC是气体性分子污染物(Airborne Molecular Contamination)的缩写，主要被SEMI定义有四大子项目：MA(酸蒸气)、MB(硷蒸气)、MC(凝结物质)及MD(掺杂物质)，来源可能是无尘室外的汽车排气、大气臭氧、工厂排放等，或是洁净室内的化学溶剂挥发、蚀刻酸气、塑料制品溢散等，由于来源非常广泛，污染物项目族繁多元，因此如何有效控制逐渐成为相关业者相当困扰的一大难题。

 

　　为何现在大家开始重视AMC?

　　(1)AMC对半导体制程良率的影响，其实相关业者很早就已开始进行防范，但过去仅针对于大颗粒物质;但随着制程愈来愈精细，预防的标准也愈形严格，并在28奈米制程时达到检测要求的高峰。不仅在体积大小较过去严苛，AMC检测的项目也从过去单纯的酸硷物质，渐渐扩增到有机物质，而有机物的物种的监测也从过去半导体重视的十多种，渐渐扩增到新的未知有机物物种。

　　(2)为何要投入未知物质的侦测?原因在于半导体制程分有很多阶段，每段都有不同的化学物质投入，因此当我们要判断污染来源时，我们除了要判断当下制程的污染外，也要了解前段制程是否残留有污染，或操作人员当下是否有造成其他来源的污染，唯有每段精确的掌握状况，才可能真的杜绝污染源继续发展。

　　产业如何因应AMC问题?

　　(1)半导体业者为了与其他竞争者拉出领先差异，对于AMC的全面性检测标准要求日益严格。目前许多知名半导体大厂也已导入这样的自动监控设备，因为所有业者都了解，透过良率的提升，将是维持竞争优势的最大命脉。

　　(2)光电产业部分，OLED的前端LTPS制程也开始重视AMC的侦测控制。这块制程在电性控制上非常重要，因此AMC的侦测也相形重要。许多大面板厂目前也已导入自动监控设备，以求良率的提升。

　　面板产业常用的曝光机制程、表层涂布制程，对于AMC干扰都会有相当敏感的反应，因此更需对AMC作更精密的控制。AMC的产生会让曝光机的镜头产生化学反应，进而在光学镜头上产生化合物的附着，而这样的状况就会产生制程上的异常点。(光影污染)

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