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3、间接测试技术
3.1 表面分析技术
将测试样片(铜片、银片或硅片等)置于半导体洁净室中，AMC会在样品表面形成原子或分子层级的沉积膜。利用表面分析技术，如俄歇电子能谱仪(AES)、X射线光电子能谱仪(XPS)、二次离子质谱仪(SIMS)等，测试样片的污染膜，从而间接分析AMC。
3.2 压电晶体传感器
3.2.1 石英晶体质量传感器
依据压电谐振原理，石英晶体微天平(Quartx Crystal Microbalance，简称QCM)可以测量电极表面纳克级(10-9g)的质量变化，石英是具有压电性质的物质，当外加交变电压的频率为某一特定频率时，石英晶片振幅会急剧增加，这就是压电谐振。在真空或气相中，谐振频率变化与晶体表面上的质量变化为线性关系。
以铜或银为QCM电极材料制成的监测仪器，可以将测得的质量变化数据经校正后以腐蚀膜厚度(以Å为单位)输出，从而以美国仪器仪表协会(I.S.A)“过程测量和控制装置环境条件：腐蚀性气体”分类方式对环境分级。进而间接得到测试环境中气态分子污染物的存在状况。该类仪器具有高质量灵敏率和时间分辨率，可以即时在线监测环境的变化。
3.2.2 表面声波传感器(SAW)
将压电石英晶体转换为表面声波(Surface Acoustic Wave，简称SAW)压电器件，就得到SAW的电导传感器。
SAW是一种快速、灵敏的质量型探测技术。SAW传感器由SAW振荡器、第三的界面膜材料和振荡电路组成，其核心是SAW振荡器，一般有延迟线型和谐振器型两种结构，后者具有更高的灵敏度和分辨率。SAW传感器采用的高工作频率，使其具有高于传统QCM约100多倍的测量灵敏度。SAW探测技术进行定量分析的质量响应关系符合线性关系。以SAW制作的监测仪器，可以将测量的质量变化数据直接输出，进而间接得到测试环境的污染变化。
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